套zeiss smt ag生产的新一代光学系统（耗资275万美元），适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统没有研制成功，但光刻机样机制程工艺突破500nm，达到350nm。
意外惊喜！
这款8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机，被命名为gca3500a光刻机。
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