ech、svg和asml等竞争。
要想夺回光刻机的高端市场，gca只能靠光刻机半导体研究院研制成功适应8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，一举突破8英寸晶圆和500nm制程工艺的瓶颈，研制成功8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机。
重生者先后参股cymer、memc和zeiss smt ag，就是给gca一个重获新生的机会，帮助美国公司在光刻机上同日本公司竞争！
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