道，业界对下一代光刻机的发展提出了两条技术路线，据我所知，157n光刻技术同样遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战，不是短时间能克服的；即使euv联盟在5年内研发成功euv，但euv光刻机量产还有很长的路要走，业界悲观预测，5年内看不到65n制程工艺光刻机问世，芯片的升级换代将会陷入停滞，受到美国经济下滑和65n制程工艺技术研发受阻的双重影响，半导体产业的快速发展也不可能继续延续。」
孙健一脸严肃，不是信口雌黄，也不是指点江山，准确预测光刻机产业和半导体产业未来的发展趋势，避免ga陷入被动，继续树立ga一把手的权威形象。
打算关门的ga能成为全球第一大光刻机公司，孙董事长的贡献第一，这是现场众董事的心声。
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