大的差距，一旦采用世界最先进的半导体材料和涂胶显影设备，光刻机制程工艺还有很大的提升空间。”
bsec一晃成立近二年，公司中高层前年已经大调整，像夏季常教授、杨鸿涛教授、郭兴程研究员、李广均研究员、钱富强副研究员、邓中海副研究员和张国伟副研究员等一大批有能力有闯劲的中青年技术骨干，通过引进和竞聘，走上了光刻机半导体研究院的中高层岗位。
去年底，215五项有关光源、镜头、激光器、光刻机工作台等工作组件，光刻胶、光刻气体、光掩膜板、单晶硅制造、刻蚀、薄膜沉积设备等半导体材料和涂胶显影设备等技术攻关项目已经通过专家组验收合格，转入申请公司发明专利和生产阶段。
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