和钱富强助理带领光刻机光源研究所，正在研发arfi准分子激光器，重生者寄希望五年左右实行弯道超车。
bsec还没有研发成功6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机，而nikon和gca已经先后研发成功8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机，正在研发8英寸晶圆和250nm制程工艺，对方淘汰的专利技术还是bsec正在研发的，技术实力相差太大，邓院士等人生出一股无力感。
不是重生者指引方向，bsec研制成功全球唯一的磁悬浮式双工作台系统，在全球光刻机行业说话的资格都没有。
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