ML公司。
“普拉多，京城半导体设备公司上周三，向中国国家专利局递交了磁悬浮式光刻机双工作台系统的公司发明专利申请，能提高芯片制程工艺精度15%，提高芯片产量35%，对方抢在了我们的前面。”
理查德得到消息后，向普拉多汇报，工程师琼斯今年五月向公司申请，研发光刻机双工作平台系统项目，公司拨款一百万美元的研究经费，成立了二十人的项目联合研发组，如今还没有结果。
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