的潜心研究，有孙健不断「点拨」，终于在去年7月研制成功浸没式光刻系统技术，arf激光器发射的193n光源通过纯净水的折射，得到了波长134n的光源，解决了业界遇到的193n波长的世界级难题，还没有申请公司发明专利，秘而不宣。
只能委屈钱富强和140多名研发人员了。
研究员钱富强凭借主持研发成功浸没式光刻系统技术，攻克这项光刻机光源上的世界级难题，凭借这一世界级的重大科研成果，就能申请工程院院士。
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