，像65这种接触式光刻机也远远不行了。
因为现在的光刻机是光直接透过掩膜版照射在硅片上的，简单来说这掩膜版就像一个芯片模具，你造个毫米级的模具没问题，但你要造微米级甚至纳米级的模具就没辙了。
换句话说，如果你能造出纳米级的掩膜版出来，你何必再去费劲搞什么光刻机呢？
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