晶硅上面也就是上万个半导体而已。
不过在人类不断的突破下，不断的更换光源和镜头，将光线也变得越来越细，最后也就成了现在的70nm级别制程的光刻机了。能够在一片单晶硅上面刻画上千万的半导体。
但这也顶天了，到90年代中期，人类就发现不管是镜头还是光源，人类都已经突破到极致了。除非能够弄到比激光和紫外线还要细的光源，或者干脆换掉光，用另外一种方式来刻画，否则这就是一个无法突破的死穴。
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