还远远不够，因为李皓的目光已经超越了国内，投向了更广阔的国际市场。
国外还有更先进的光刻机，更尖端的生产线，而自己目前还只能处于防守态势，努力在国内扩大市场份额，但在国际上却还未能拥有足够的话语权和影响力，无法展开全面的反攻。
因此，李皓给自己定下了一个更为远大的小目标：要最晚在20年，推出EUV光刻机，将光刻机的制程技术推进到5nm的尖端水平，彻底赶上世界一流水平，并实现初步反攻国际市场。
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