式光刻技术的出现，将原先镜头与光刻胶之间的介质从空气换成了液体，从而利用光通过液体介质后光源波长缩短达成了提高分辨率的要求。
至于真正量产，那就还要靠后，一直到2007年蔡司公司推出的arlih1900i，成为了第一款达到38纳米极限分辨率的浸没式光学器件，AL公司继而才生产出跨越式的光刻机来。
而且这项技术最大的好处就是，其利用的还是原来的193n干式光刻技术平台，只不过是单纯的介质改变，其他的技术应用并没有太多改动，所以比起一项崭新的技术，更能让客户接受。
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